3月11日晚间，上海新阳发布公告称，近日，由参股子公司芯刻微公司委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。3月11日，芯刻微公司向盛吉盛支付10%首期货款购入该光刻机，剩余90%六个月内付清。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。
公告称，公司作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商，自立项进行光刻胶项目研发以来，将突破集成电路高端光刻胶国外垄断，实现集成电路高端光刻胶材料的国产化作为发展目标，在ArF干法、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技术与产品的突破。
公告还指出，通过子公司芯刻微开展的ArF湿法光刻胶项目研发也已引进了核心技术专家团队，为ArF湿法光刻胶项目的开发提供了技术保障，现公司采购的ASML浸没式光刻机设备是对公司ArF湿法光刻胶技术先进性的设备保障，对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，加速落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。
公告同时提示，本次购买的光刻机尚须经过运输、装机、调试及投入相关配套设施，若以上环节出现工作疏漏或失误则存在造成所购买的光刻机投入使用的过程较长甚至无法投入使用的风险。
另外，光刻胶产品在集成电路材料中技术难度大，质量要求最高，开发周期长，且核心技术及原材料几乎被国外厂商所垄断。因此，存在着研发失败和研发计划滞后的风险。
盘面上，上海新阳今日报收于44.77元，涨3.92%。
